通过在反应腔内布置的电极之间产生辉光放电现象，使得工艺气体被电离成为带电等离 子体，促进光刻胶与工艺气体的反应，生成可挥发物质，从而达到去除光刻胶的目的。主要用 于光刻胶的剥离、材料的表面处理及表面改性等。