基本信息

  • 生产厂商 SPTS Technologies
  • 资产编号
  • 资产负责人 ----
  • 购置日期2015-11-12
  • 仪器价格103.00 万元
  • 仪器产地美国
  • 仪器供应商
  • 购买经办人
  • 主要配件
  • 主要参数HF气体流量:0~1000sccm;无水乙醇气体流量:0~370sccm;工艺氮气流量0~3000sccm;刻蚀速率:100-1000埃/min;最大兼容至8英寸;

仪器介绍

通过无水乙醇的催化作用,HF气体与SiO2反应生成可挥发产物SiF4及气态水,并通过真空系 统排出。整个反应过程不生成液态水,避免了液体表面张力及毛细现象对悬空微纳结构的粘连 影响,常用于牺牲层的释放工艺,可以获得良好的表面质量,确保悬空微纳米结构的有效释 放。