仪器介绍
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基本信息
生产厂商
SPTS Technologies
资产编号
资产负责人
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购置日期
2015-11-12
仪器价格
103.00 万元
仪器产地
美国
仪器供应商
购买经办人
主要配件
主要参数
HF气体流量:0~1000sccm;无水乙醇气体流量:0~370sccm;工艺氮气流量0~3000sccm;刻蚀速率:100-1000埃/min;最大兼容至8英寸;
仪器介绍
通过无水乙醇的催化作用,HF气体与SiO2反应生成可挥发产物SiF4及气态水,并通过真空系 统排出。整个反应过程不生成液态水,避免了液体表面张力及毛细现象对悬空微纳结构的粘连 影响,常用于牺牲层的释放工艺,可以获得良好的表面质量,确保悬空微纳米结构的有效释 放。
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