基本信息

  • 生产厂商 中国电子科技集团第二研究所
  • 资产编号
  • 资产负责人 魏钰
  • 购置日期2016-12-22
  • 仪器价格160.00 万元
  • 仪器产地中国
  • 仪器供应商
  • 购买经办人
  • 主要配件
  • 主要参数主要功能部件：工艺槽、QDR槽、控制系统、管路系统和抽风系统等； 工艺槽：KOH、HCl、HF、BOE、H3PO4及其他酸碱刻蚀液； 主要功能：自动上液、循环过滤、在线加热、鼓泡和喷淋、高低液位检测、快排和溢流、自清洗、水阻率检测等；

仪器介绍

主要用于MEMS领域中硅、氧化硅、氮化硅及金属材料的湿法刻蚀工艺。